雙靶磁控濺射儀 雙靶磁控濺射儀 雙靶磁控濺射儀

輸入電源  
220VAC50/60Hz,單相  
2000W(包括泵)  
濺射電源  
安裝有兩個濺射電源  
直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜  
射頻（RF）電源：600W，可制作氧化物和金屬膜  
同時可選配300W的射頻電源  
磁控濺射頭  
儀器中安裝有2個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫  
其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材  
另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材  
靶材尺寸要求：金屬靶：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm  
陶瓷靶：直徑為50mm,zui大厚度6mm  
儀器中標配一個不銹鋼靶和氧化鋁陶瓷靶  
濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機）  
也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭，訂購前需于本公司銷售人員  
真空腔體  
真空腔體：300mmDiax300mmh，采用不銹鋼制作  
觀察窗口：100mmdiameter  
腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易  
載樣臺  
載樣臺尺寸：140mmdia.（zui大可放置4"的基底）  
載樣臺可以旋轉，其速度為：1-20rpm（可調）  
載樣臺zui高可加熱溫度為500℃，控溫精度為+/-1.0°C  
氣體流量控制器  
儀器內部安裝有2個質量流量計  
量程為：0-200sccm  
氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
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